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電學(xué)領(lǐng)域?qū)@暾?qǐng)


查看: 3925 發(fā)布日期: 2018/9/26 9:46:36

 

電學(xué)領(lǐng)域申請(qǐng)專利包含電子產(chǎn)品和電路設(shè)計(jì),其專利涉及的技術(shù)較廣,從材料到結(jié)構(gòu)再到控制方法,都可能產(chǎn)生專利點(diǎn)。電學(xué)領(lǐng)域內(nèi),可以申請(qǐng)專利的發(fā)明創(chuàng)造包括:
(1)新的電子元件或電子元件的改進(jìn),可能涉及元件材料及結(jié)構(gòu);
(2)新的功能模塊或功能模塊的改進(jìn),包括電路設(shè)計(jì)、模塊物理結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)等;
(3)新的設(shè)備、裝置或設(shè)備、裝置的改進(jìn),最常見的是通過增減模塊或者改變模塊的連接關(guān)系來實(shí)現(xiàn)新的功能或者改進(jìn)呢性能;
(4)新的系統(tǒng)或系統(tǒng)的改進(jìn),包括系統(tǒng)構(gòu)架設(shè)計(jì)、系統(tǒng)中設(shè)備的增減、設(shè)備連接關(guān)系的改變等;
(5)針對(duì)主設(shè)備或者主系統(tǒng)的配套設(shè)備或配套系統(tǒng),出于一些專用目的,如散熱、除塵等;
(6)針對(duì)具體電子設(shè)備或系統(tǒng)的新的控制方法或控制方法的改進(jìn);
(7)電子產(chǎn)品的新生產(chǎn)工藝或生產(chǎn)工藝的改進(jìn),包括新的制造設(shè)備或制造設(shè)備的改進(jìn);
(8)電子產(chǎn)品的新測(cè)試設(shè)備、新測(cè)試方法或測(cè)試設(shè)備、測(cè)試方法的改進(jìn)。

電學(xué)領(lǐng)域申請(qǐng)專利的資料應(yīng)具備以下內(nèi)容

技術(shù)/產(chǎn)品創(chuàng)新主要基于產(chǎn)品、設(shè)備的構(gòu)造或生產(chǎn)工藝、控制方法的改進(jìn),則申請(qǐng)時(shí)應(yīng)考慮提供:
1、已有技術(shù)/產(chǎn)品的不足:即說明與本專利的內(nèi)容最相似的技術(shù)/產(chǎn)品,需要說明已有電路、產(chǎn)品/設(shè)備的主要結(jié)構(gòu)、原理、實(shí)用效果,或已有控制方法的步驟、原理、效果,尤其指出與本專利相比,原有技術(shù)存在的缺點(diǎn)或不足之處。如有引用文獻(xiàn),需要說明出處;如有參考產(chǎn)品,指出其型號(hào)、廠家。對(duì)原有技術(shù)或電路的介紹盡可能詳細(xì),可附結(jié)構(gòu)原理圖、電路圖或流程圖。

2、本專利的內(nèi)容:應(yīng)說明本專利達(dá)到目的或解決問題的技術(shù)手段。包括產(chǎn)品、電路的組成、結(jié)構(gòu),尤其說明各組成部分之間的相互關(guān)系,例如連接關(guān)系、被作用的工作電流或信號(hào)的走向。對(duì)于方法,應(yīng)當(dāng)說明本方法的主要思路、步驟。寫明本專利的工作原理,本專利與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別點(diǎn)。

3、本專利的效果:有益效果可以由工作性能的提高,制作成本、能量損耗的減少,產(chǎn)率和精度的提高,穩(wěn)定性的增加,操作、控制、使用的簡(jiǎn)便,以及其他有用性能的出現(xiàn)等方面反映出來。

4、附圖與說明:產(chǎn)品構(gòu)造或裝置或設(shè)備的圖解,圖應(yīng)以電子制圖或流程圖的標(biāo)準(zhǔn)繪制,而非掃描圖。使專利工作人員可直接在附圖上編輯修改,實(shí)用新型申請(qǐng)必須帶附圖。

5、本專利的具體實(shí)施例:對(duì)照附圖,說明本專利的具體實(shí)施方式,必須有詳細(xì)的工作機(jī)理,包括附圖中各具體器件功能介紹、及流程圖中具體各個(gè)流程的功能。最好提供相應(yīng)的技術(shù)參數(shù)、數(shù)據(jù)來具體說明有益效果,可同時(shí)提供原有技術(shù)的參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比。

電學(xué)領(lǐng)域申請(qǐng)專利注意事項(xiàng)

電路方面的發(fā)明創(chuàng)造,可以是一個(gè)具體的裝置,也可以是某個(gè)裝置中的一個(gè)局部電路或幾個(gè)局部電路的組合,但必須是一個(gè)產(chǎn)品,而不是一個(gè)設(shè)想。因此在申請(qǐng)專利時(shí),提供該發(fā)明或?qū)嵱眯滦屯暾碾娫韴D以及與該原理圖相對(duì)應(yīng)的電路框圖是必不可少的,這一點(diǎn)與機(jī)械、化工、生物、工藝等不同。

 

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